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VAD沉積設備
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光纖預制棒VAD(Vapor Axial Deposition,氣相軸向沉積)是光纖制造中的一種關鍵技術。光纖預制棒的質量直接影響最終光纖的性能,VAD沉積被廣泛應用于各類光纖的制造,尤其是高性能光纖如特種光纖和通信光纖等。通過VAD技術沉積的光纖預制棒,通常具備優異的傳輸性能和較低的損耗,對現代通信領域的高速發展起到重要推動作用。

VAD主要特點:

均勻性:VAD工藝能實現優質的沉積,形成均勻的光纖預制棒,減少缺陷。

可控性:能夠精確控制材料的成分和沉積速度,從而可以調節所得光纖的光學性質。

高純度:由于使用的氣體化合物能夠在高溫環境下分解,VAD技術通常能獲得高純度的硅或鍺材料。


主要技術指標

1

單次沉積數量

1根

2

噴燈數量

2個

3

沉積松散體最大直徑

Ф200mm

4

沉積松散體最大長度

1300mm

5

預制棒直徑

Ф90mm

6

沉積最大重量

11kg

7

沉積重量誤差

±0.1kg

8

沉積速率

10g/min

9

附著率

60%

10

1mm以內氣泡數量

≤5

11

使用原料

SiCl4\SiGe4\H2\O2\Ar2



設備組件

1

沉積艙

1套

2

蒸發柜

1套

3

氣柜

1套

4

廢氣處理裝置

1套

5

電控系統

1套











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