光纖預制棒VAD(Vapor Axial Deposition,氣相軸向沉積)是光纖制造中的一種關鍵技術。光纖預制棒的質量直接影響最終光纖的性能,VAD沉積被廣泛應用于各類光纖的制造,尤其是高性能光纖如特種光纖和通信光纖等。通過VAD技術沉積的光纖預制棒,通常具備優異的傳輸性能和較低的損耗,對現代通信領域的高速發展起到重要推動作用。
VAD主要特點:
均勻性:VAD工藝能實現優質的沉積,形成均勻的光纖預制棒,減少缺陷。
可控性:能夠精確控制材料的成分和沉積速度,從而可以調節所得光纖的光學性質。
高純度:由于使用的氣體化合物能夠在高溫環境下分解,VAD技術通常能獲得高純度的硅或鍺材料。
主要技術指標
1 | 單次沉積數量 | 1根 |
2 | 噴燈數量 | 2個 |
3 | 沉積松散體最大直徑 | Ф200mm |
4 | 沉積松散體最大長度 | 1300mm |
5 | 預制棒直徑 | Ф90mm |
6 | 沉積最大重量 | 11kg |
7 | 沉積重量誤差 | ±0.1kg |
8 | 沉積速率 | 10g/min |
9 | 附著率 | 60% |
10 | 1mm以內氣泡數量 | ≤5 |
11 | 使用原料 | SiCl4\SiGe4\H2\O2\Ar2 |
設備組件
1 | 沉積艙
| 1套 |
2 | 蒸發柜
| 1套 |
3 | 氣柜
| 1套 |
4 | 廢氣處理裝置
| 1套 |
5 | 電控系統
| 1套 |