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OVD沉積設備是用于光纖預制棒外包生產制造的重要設備，OVD 技術主要是通過在基材上沉積硅氧化物來形成光纖所需的光學特性和結構特點。

OVD沉積技術具有以下優勢：

高純度與均勻性：由于在氣相中進行沉積， OVD 可以制造出高純度的材料，且沉積層均勻性高。

設計靈活性：可以調整沉積材料和工藝參數，生成具有不同折射率和結構的光纖。

適用性廣：適用于各種類型的光纖預制棒，包括單模和多模光纖。

OVD 沉積設備在光纖生產中起著至關重要的作用，以其高效和精確的沉積過程來滿足現代光通信和傳感器技術的要求。

主要技術指標

設備組件